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窒素ガス発生装置

窒素ガス発生装置 膜分離方式

フクハラの窒素ガス発生装置
ガス分離膜方式により、窒素純度は99%。

圧縮空気をガス分離膜(中空糸膜)に送り込みますと、膜から透過しやすい水分、酸素等が膜を通り抜けて膜外にパージされます。

膜を透過しなかった窒素、アルゴンガス等が製品として取り出されます。
なお膜はクリーンな空気圧の使用においては半永久的に使用が可能です。

窒素ガス発生装置膜分離方式

窒素ガス発生装置 膜分離方式 特長

  • 圧縮空気を接続するだけで、純度99%の窒素ガスが得られます。
  • イニシャルコストが安価です。
  • 低露点-40℃以下。(97%時)
  • 製品原料は圧縮空気と電気です。(無電源装置にもなります。)
  • スペースをとらないコンパクト設計です。
  • 高圧ガス保安法、第二種圧力容器の適用範囲外です。

窒素ガス発生装置膜分離方式特長

窒素ガス発生装置 膜分離方式 ラインナップ

膜分離方式は低純度(90~99.5%程度)に向いています。
装置の利用には、コンプレッサー、または圧縮空気の用意をお願いします。

型式 窒素ガス純度
窒素ガス発生量
NL/min
窒素ガス
取出圧力
MPa
寸法
(W×D×H)mm
質量 kg必要空気量
(圧力0.7MPa時)
L/min
N2B1-HL797160.7500×620×1,0207054
N2B2-HL73275108
N2C2-HL755590×620×1,350120180
N2D2-HL798319
N2D3-HL7147130478
N2D5-HL7245150796
N2C1-HL99916590×620×1,35010573
N2C2-HL932110146
N2C3-HL948130219
N2D3-HL980387
N2D4-HL9107140515
N2D6-HL9160590×900×1,350180773

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